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            光刻膠的生產步驟有哪些?

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            光刻膠的生產步驟有哪些?

            發布日期:2016-07-27 作者: 點擊:

            光刻膠的生產步驟有哪些

            1、準備基質:在涂布光阻劑之前,硅片一般要進行處理,需要經過脫水烘培蒸發掉硅片表面的水分,并涂上用來增加光刻膠與硅片表面附著能力的化合物(目前應用的比較多的是六甲基乙硅氮烷(hexa-methyl-disilazane,簡稱HMDS)以及基甲硅烷基二乙胺(tri-methyl-silyl-diethyl-amime,簡稱TMSDEA))。

              2、涂布光阻劑(photo resist):將硅片放在一個平整的金屬托盤上,托盤內有小孔與真空管相連,硅片就被吸在托盤上,這樣硅片就可以與托盤一起旋轉。涂膠工藝一般分為三個步驟:1.將光刻膠溶液噴灑倒硅片表面;2.加速旋轉托盤(硅片),直到達到所需的旋轉速度;3.達到所需的旋轉速度之后,保持時間的旋轉。由于硅片表面的光刻膠是借旋轉時的離心力作用向著硅片外圍移動,故涂膠也可稱做甩膠。經過甩膠之后,留在硅片表面的光刻膠不足原有的1%。

              3、軟烘干:也稱前烘。在液態的光刻膠中,溶劑成分占65%-85%,甩膠之后雖然液態的光刻膠已經成為固態的薄膜,但仍有10%-30%的溶劑,容易玷污灰塵。通過在較高溫度下進行烘培,可以使溶劑從光刻膠中揮發出來(前烘后溶劑含量降至5%左右),從而降低了灰塵的玷污。同時還可以減輕因高速旋轉形成的薄膜應力,從而提高光刻膠的附著性。在前烘過程中,由于溶劑揮發,光刻膠厚度也會減薄,一般減薄的幅度為10%-20%左右。

              4、曝光:曝光過程中,光刻膠中的感光劑發生光化學反應,從而使正膠的感光區、負膠的非感光區能夠溶解于顯影液中。正性光刻膠中的感光劑DQ發生光化學反應,變為乙烯酮,進一步水解為茚并羧酸(Indene-Carboxylic-Acid,簡稱ICA),羧酸對堿性溶劑的溶解度比未感光的感光劑高出約100倍,同時還會幫助酚醛樹脂的溶解。于是利用感光與未感光的光刻膠對堿性溶劑的不同溶解度,就可以進行掩膜圖形的轉移。

              5、顯影(development) :經顯影,正膠的感光區、負膠的非感光區溶解于顯影液中,曝光后在光刻膠層中的潛在圖形,顯影后便顯現出來,在光刻膠上形成三位圖形。為了提高分辨率,幾乎每一種光刻膠都有專門的顯影液,以保證高質量的顯影效果。

              6、硬烘干:也稱堅膜。顯影后,硅片還要經過一個高溫處理過程,主要作用是除去光刻膠中剩余的溶劑,增強光刻膠對硅片表面的附著力,同時提高光刻膠在刻蝕和離子注入過程中的抗蝕性和保護能力。在此溫度下,光刻膠將軟化,形成類似玻璃體在高溫下的熔融狀態。這會使光刻膠表面在表面張力作用下圓滑化,并使光刻膠層中的缺陷(如針孔)因此減少,借此修正光刻膠圖形的邊緣輪廓。

              7、刻(腐)蝕或離子注入

              8、去膠:刻蝕或離子注入之后,已經不再需要光刻膠作保護層,可以將其除去,稱為去膠,分為濕法去膠和干法去膠,其中濕法去膠又分有機溶劑去膠和無機溶劑去膠。有機溶劑去膠,主要是使光刻膠溶于有機溶劑而除去;無機溶劑去膠則是利用光刻膠本身也是有機物的特點,通過一些無機溶劑,將光刻膠中的碳元素氧化為二氧化碳而將其除去;干法去膠,則是用等離子體將光刻膠剝除。

            光刻膠的生產步驟

            本文網址:http://www.jnycxf.com/news/372.html

            關鍵詞:光刻膠,光刻膠的生產步驟,光刻

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