紫外納米壓印膠一般由主體樹脂、光引發劑、溶劑以及添加劑等四部分組成，根據主體樹脂不同，紫外納米壓印光刻膠一般可分為環氧樹脂、乙烯基醚、丙烯酸酯等幾類。L Guo研究了一種新型的以環氧硅酮為中間體的紫外固化材料，該環氧硅酮中間體可通過加入乙酸丙二醇單甲基醚酯進行黏度調節，該配方能夠得到20nm的壓印圖案。Micro Resist Technology公司推出了名為Mr-NIL-6000的紫外納米壓印膠，該配方在100℃下熱壓印再曝光60s可以得到納米級圖案；由于將熱壓印與紫外壓印進行了有效結合，使圖案的穩定性得到了提高。
    乙烯基醚體系為陽離子固化，聚合速率快，屬于紫外納米壓印中常用的光刻膠體系。Kim等人對有機硅改性的乙烯基醚進行了深入地研究，他們以BVMDSO組成的光刻膠體系用于紫外納米壓印可以得到30nm的圖案。
    丙烯酸酯體系早在1999年即引入到納米壓印技術中，目前該體系的紫外納米壓印膠是應用廣泛的。Lee等人采用由甲基丙烯酸苯酯單體、聚甲基丙烯酸苯酯以及光引發劑組成的光刻膠在一個大氣壓下即可得到較好的圖案。Williams等人采用芐基甲基丙烯酸酯、聚二甲基硅烷、光引發劑等組成的紫外壓印光刻膠在20psi的低壓下能夠得到50nm的圖案。由Micro Resist Technology公司推出的新型丙烯酸酯類Mr-UVCur06光刻膠，通過1%的I369引發劑進行固化時速度快，320nm-420nm光源下曝光可以得到尺寸為230nm-35nm的圖案。
    然而，隨著納米壓印圖形的功能化發展，紫外納米壓印光刻膠的配方中逐漸被引入一些無機材料，而這些無機材料（粒子）的摻雜對壓印膠薄膜的機械性能、抗刻蝕性能等有了改善，因此這一類紫外納米壓印膠的研究也廣泛起來。J H Choi將銀漿、甲基丙烯酸羥乙酯以及光引發劑等進行光刻膠配方研究，結果表明當銀的含量在光刻膠中小于60%時并不影響圖形質量；然而摻雜后的一個現象則是與甲基丙烯酸羥乙酯單體聚合的收縮率相比，摻雜銀納米粒子后光刻膠的收縮率達到了25%-35%，這將無法滿足紫外納米壓印光刻膠的基本要求。
    含硅有機材料抗刻蝕能力強，生物相溶性好。因此很多學者對含硅紫外納米壓印膠進行了大量的研究。如Willson等合成了端基為環氧基團的多面低聚倍半硅氧烷，以此為原料加入引發劑制備光刻膠；結果表明在納米壓印中能夠得到較好的圖案，但整個體系黏度較大，且該聚合物在200℃下熱分解嚴重，熱穩定性較差。Girolamo等在籠狀倍半硅氧烷八個頂點上各連接十個碳原子的環氧化合物，以此為聚合物單體再添加光引發劑配置紫外納米壓印光刻膠，得到了較好的綜合性能。