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            紫外壓印光刻技術

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            紫外壓印光刻技術

            發布日期:2019-08-28 作者: 點擊:

            紫外壓印工藝是將單體涂覆的襯底和透明印章裝載到對準機中, 在真空環境下被固定在各自的卡盤上。當襯底和印章的光學對準完成后, 開始接觸壓印。透過印章的紫外曝光促使壓印區域的聚合物發生聚合和固化成型。


            與熱壓印技術相比, 紫外壓印對環境要求更低, 僅在室溫和低壓力下就可進行,從而使用該技術生產能大大縮短生產周期, 同時減小印章磨損。由于工藝過程的需要, 制作紫外壓印印章要求使用能被紫外線穿過的材料。


            以往紫外壓印工藝中印章是用PDMS 材料涂覆在石英襯底上制作而成。PDMS 是一種楊式模數很小的彈性體, 用它制作的軟印章能實現高分辨率。然而在隨后的試驗中發現由于PDMS 本身的物理軟性, 在壓印過程中在外界低壓力下也很容易發生形變, 近來, 法國國家納米結構實驗室提出使用一種3 層結構的軟性印章, 以減小紫外壓印印章的形變。


            該印章使用2mm 厚的石英襯底, 中間一層是厚度為5mm 的PDMS 緩沖層, 頂層是由PMMA 構成。具體制作印章步驟是先將PMMA 均勻涂覆在被離子激活的PDMS 材料上, 在PMMA 上鍍上一層30nm厚的鍺薄膜作為后續工藝中的刻蝕掩模, 再在鍺薄膜上涂覆對電子束靈敏度高的抗蝕劑, 隨后用電子束光刻及反應離子刻蝕就可在印章頂層PMMA 上得到高縱橫比的圖案, 將殘余鍺薄膜移去即可。使用該方法可以在保持高分辨率情況下大大提高印章的堅硬度, 減小印章壓印形變。

            光刻膠

            本文網址:http://www.jnycxf.com/news/420.html

            關鍵詞:紫外壓印光刻技術,光刻技術概念,光刻膠

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