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            納米壓印光刻的特點

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            納米壓印光刻的特點

            發布日期:2019-08-27 作者: 點擊:

            壓印本質上從本質上是一種印刷復制技術,是將模板進行大量復制的技術。壓印技術加工技術根據圖形尺寸的大小可分為納米壓印技術和模壓技術。開始提出的納米壓印技術為熱壓印納米技術和室溫納米壓印技術。

            納米壓印是一種全新的納米圖形復制方法。流程圖如圖1所示。其特點是:

            高分辨率

            沒有光學曝光中的衍射現象和電子束曝光中的散射現象;

            高產量

            可以像光學曝光那樣并行處理,同時制作成成百上千個器件;

            高保真度

            幾乎無差別的講掩模板上的圖形轉移到wafer上;

            低成本

            不像光學曝光機那樣需要復制的光學系統或像電子束曝光機那樣需要復雜的電磁聚焦系統

            納米壓印光刻廠家

            本文網址:http://www.jnycxf.com/news/422.html

            關鍵詞:納米壓印光刻廠家,無錫納米壓印光刻,江蘇納米壓印光刻

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