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            電子束光刻和納米壓印光刻

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            電子束光刻和納米壓印光刻

            發布日期:2019-09-18 作者: 點擊:

             根據德布羅意的物質波理論,電子在加速電壓作用下獲得極高的能量,其波長可以達到0.1埃以下,電子束斑的直徑可以降至幾納米。電子束光刻利用電子束作為“光源”,電子束在電磁透鏡的作用下偏轉,可以在基底的光刻膠上寫出自定義的圖形。


            電子束就像毛筆,電子就像是筆尖的毫毛,可以通過控制來得不同粗細的筆尖,從而獲得不同粗細的線條。同時毛筆也可以在紙上自由的發揮,任意的繪畫或書寫。這種掃描曝光的方式不需要掩模版,可以歸為無掩模光刻。無掩模光刻除了利用電子束之外,也有離子束、激光、探針等方式。


            由電子束光刻等方法加工出具有微米或納米尺寸的高分辨率的模板,再利用模板去壓印光刻膠使其形變,產生圖形的方式,即為納米壓印光刻。納米壓印光刻是一種相對簡單的方法,具有低成本、高產出、高分辨率等特點。這一過程與篆刻印章十分類似。


            壓印過程中氣泡的轉移和脫模過程聚合物的粘結,對轉移圖形的缺陷控制是納米壓印面臨的一個關鍵的技術挑戰。但其優勢是不需要復雜的光學器件和設備,同時也不需要根據特定波長去選擇特定分辨率和對比度的光刻膠,另外還可以實現三維的圖形化。目前納米壓印技術已經應用于電學、光學、生物學等器件。

            光刻加工廠家

            本文網址:http://www.jnycxf.com/news/429.html

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