納米壓印技術分為三個步驟。
一是模板的加工。一般使用電子束刻蝕等手段，在硅或其他襯底上加工出所需要的結構作為模板。由于電子的衍射遠小于光子，因此可以達到遠高于光刻的分辨率。
二是圖樣的轉移。在待加工的材料表面涂上光刻膠，然后將模板壓在其表面，納米壓印軟模板采用加壓的方式使圖案轉移到光刻膠上。注意光刻膠不能被全部去除，防止模板與材料直接接觸，損壞模板。
三是襯底的加工。用紫外光使光刻膠固化，移開模板后，納米結構復制用刻蝕液將上一步未完全去除的光刻膠刻蝕掉，露出待加工材料表面，然后使用化學刻蝕的方法進行加工，完成后去除全部光刻膠，得到高精度加工的材料。
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