通知公告-無錫鼎元納米科技有限公司

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熱壓印技術

納米熱壓印技術是在微納米尺度獲得并行復制結構的一種成本低而速度快的方法。該技術在高溫條件下可以將印章上的結構按需復制到大的表面上,被廣泛用于微納結構加工。整個熱壓印過程必須在氣壓小于1Pa的真空環境下進行,以避免由于空氣氣泡的存在造成
發布時間：2019-08-22 點擊次數：203

X射線光刻技術

1895年，德國物理學家倫琴首先發現了X射線，也因此獲得了諾貝爾物理學獎。X射線是一種與其他粒子一樣具有波粒二象性的電磁波，可以是重原子能級躍遷或著是加速電子與電磁場耦合輻射的產物。X射線的波長極短，1972年X射線被早提出用于光刻技術上，
發布時間：2019-08-16 點擊次數：203

微光學應用中的微鏡壓印技術

微光學對于200mm晶圓技術的需求日益增長。MEMS和半導體工業已有的工藝條件，幾乎可以制作任意微光學器件的結構。微鏡壓印技術（SMILE）采用軟質模板，在待壓印材料上制作高質量的微鏡陣列，待壓印材料是8英寸玻璃基片上的紫外可固化聚合物待壓
發布時間：2019-01-25 點擊次數：131

納米壓印光刻技術的現狀

納米壓印光刻技術的現狀目前，大量的研究機構開展了該技術的研究工作，惠普的研究人員StanWilliams用納米壓印光刻技術做出了線寬45nm的實驗存儲芯片，StanWilliams是惠普實驗室的量子科學研究方向的研究主任，他
發布時間：2019-01-25 點擊次數：107

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