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            標簽:光刻膠

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            • [行業動態] 光刻膠是光刻工藝中的關鍵材料

              1光刻膠的靈敏度靈敏度是指單位面積上入射的使光刻膠全部發生反應的min光能量(對紫外光刻膠而言)或min電荷量(對電子束光刻膠而言)。數值越小表明靈敏度越高,曝光所需的劑量相應越小,曝光過程越快。通常負膠的靈敏度要高于正膠。靈敏度太低會影響
              發布時間:2019-09-11   點擊次數:123

            • [公司新聞] 芯片制造關鍵技術——光刻技術

              光刻是集成電路重要的加工工藝,在整個芯片制造工藝中,幾乎每個工藝的實施,都離不開光刻的技術。光刻也是制造芯片的關鍵技術,他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技與社會發展中,光刻技術的增長,直接關系到大型計算機的運作等高科技領域。光刻技術
              發布時間:2019-08-26   點擊次數:156

            • [行業動態] 紫外壓印光刻技術

              紫外壓印工藝是將單體涂覆的襯底和透明印章裝載到對準機中,在真空環境下被固定在各自的卡盤上。當襯底和印章的光學對準完成后,開始接觸壓印。透過印章的紫外曝光促使壓印區域的聚合物發生聚合和固化成型。與熱壓印技術相比,紫外壓印對環境要求更低,
              發布時間:2019-08-28   點擊次數:125

            • [通知公告] 熱壓印技術

              納米熱壓印技術是在微納米尺度獲得并行復制結構的一種成本低而速度快的方法。該技術在高溫條件下可以將印章上的結構按需復制到大的表面上,被廣泛用于微納結構加工。整個熱壓印過程必須在氣壓小于1Pa的真空環境下進行,以避免由于空氣氣泡的存在造成
              發布時間:2019-08-22   點擊次數:95

            • [公司新聞] 射線光刻掩模

              在后光學光刻的技術中,其主要且困難的技術就是掩模制造技術,其中1:1的光刻非常困難,是妨礙技術發展的難題之一。所以說,我們認為掩模開發是對于其應用于工業發展的重要環節,也是決定成敗的關鍵。在過去的發展中,科學家對其已經得到了巨大的發展,也有
              發布時間:2019-08-19   點擊次數:70

            • [通知公告] X射線光刻技術

              1895年,德國物理學家倫琴首先發現了X射線,也因此獲得了諾貝爾物理學獎。X射線是一種與其他粒子一樣具有波粒二象性的電磁波,可以是重原子能級躍遷或著是加速電子與電磁場耦合輻射的產物。X射線的波長極短,1972年X射線被早提出用于光刻技術上,
              發布時間:2019-08-16   點擊次數:148

            • [行業動態] EUV光刻技術前景

              在摩爾定律的規律下,以及在如今科學技術快速發展的信息時代,新一代的光刻技術就應該被選擇和研究,在當前微電子行業為人關注,而在這些高新技術當中,極紫外光刻與其他技術相比又有明顯的優勢。極紫外光刻的分辨率至少能達到30nm以下,且更容易收到各集
              發布時間:2019-08-15   點擊次數:80

            • [行業動態] 光學光刻技術

              光學光刻是通過廣德照射用投影方法將掩模上的大規模集成電路器件的結構圖形畫在涂有光刻膠的硅片上,通過光的照射,光刻膠的成分發生化學反應,從而生成電路圖。限制成品所能獲得的小尺寸與光刻系統能獲得的分辨率直接相關,而減小照射光源的波長是提高分辨率
              發布時間:2019-08-09   點擊次數:110

            • [公司新聞] 光刻膠的分類

              光刻膠的技術復雜,品種較多。根據其化學反應機理和顯影原理,可分負性膠和正性膠兩類。光照后形成不可溶物質的是負性膠;反之,對某些溶劑是不可溶的,經光照后變成可溶物質的即為正性膠。圖1是正性膠的顯影工藝與負性膠顯影工藝對比結果。利用這種性能,將
              發布時間:2019-08-07   點擊次數:68

            • [行業動態] 光刻加工工藝的評價標準

              光刻加工工藝的評價標準一個集成電路的制造過程(processflow)是由許多工藝單元(unitprocess)構成的, 每一個工藝單元的輸出就是下一個工藝單元的輸入。工藝單元之間的銜接和整合是由工藝集成 (processinte
              發布時間:2019-01-25   點擊次數:244

            • [行業動態] 光刻加工光刻膠材料有哪些?

              光刻加工光刻膠材料有哪些?大家聽多了光刻機、蝕刻機以及nm工藝這樣的術語,對光刻膠還是十分陌生的。買回來的硅圓片經過檢查無破損后即可投入生產線上,前期可能還有各種成膜工藝,然后就進入到涂抹光刻膠環節。微 影光刻工藝是一種圖形影
              發布時間:2019-01-25   點擊次數:291

            • [行業動態] 中國半導體產業因光刻膠失色

              我國雖然已成為世界半導體生產大國,但 面板產業整體產業鏈仍較為落后。 目前,上游電子化學品(LCD用光刻膠)幾乎全部依賴進口,須加快面板產業關鍵核心材 料基礎研究與產業化進程,才能支撐我國微電子產業未來發展及“地位”的確立。 彩色薄
              發布時間:2019-01-25   點擊次數:158

            • [公司新聞] 光刻加工光刻膠的主要技術參數有哪些?

              光刻加工光刻膠的主要技術參數有哪些?1.靈敏度(Sensitivity)靈敏度是衡量光刻膠曝光速度的指標。光刻膠的靈敏度越高,所需的曝光劑量越小。單位:毫焦/平方厘米或mJ/cm2。2.分辨率(resolution)區別硅片表面相鄰圖形特征
              發布時間:2018-09-27   點擊次數:194

            • [媒體報道] 光刻加工光刻膠的特點有哪些?

              光刻加工光刻膠產品特點:1.光刻膠種類齊全,可以滿足多種工藝要求的用戶。產品種類包含:各種厚度的紫外光刻膠(正膠或負膠),lift-off工藝用膠,LIGA用膠,圖形反轉膠,化學放大膠,耐刻蝕保護膠,聚酰亞胺膠,全息曝光用膠,電
              發布時間:2018-10-08   點擊次數:81

            • [媒體報道] 光刻膠是什么?光刻加工為您大揭底

              光刻膠是一大類具有光敏化學作用(或對電子能量敏感)的高分子聚合物材料,是轉移紫外曝光或電子束曝照圖案的媒介。光刻膠的英文名為resist,又翻譯為抗蝕劑、光阻等。廣泛應用于集成電路(IC),封裝(Packaging),微機電系統(MEMS)
              發布時間:2018-10-08   點擊次數:86

            • [媒體報道] 光刻膠使用時的注意事項

              光刻膠是微電子技術中微細圖形加工的關鍵材料之一,特別是近年來大規模和很大規模集成電路的發展,更是大大幫助了光刻膠的研究開發和應用。印刷工業是光刻膠應用的另一重要領域。1954年由明斯克等人首先研究成功的聚乙烯醇肉桂酸脂就是用于印刷工業的,
              發布時間:2018-09-30   點擊次數:109

            • [媒體報道] 光刻膠理論

              光刻膠定義光刻膠是一大類具有光敏化學作用(或對電子能量敏感)的高分子聚合物材料,是轉移紫外曝光或電子束曝照圖案的媒介。光刻膠的英文名為resist,又翻譯為抗蝕劑、光阻等。因為光刻膠的作用就是作為抗刻蝕層保護襯底表面。光刻膠只是一種形象的說
              發布時間:2018-09-30   點擊次數:81

            • [行業動態] 紫外納米壓印膠的分類及研究概況

              紫外納米壓印膠一般由主體樹脂、光引發劑、溶劑以及添加劑等四部分組成,根據主體樹脂不同,紫外納米壓印光刻膠一般可分為環氧樹脂、乙烯基醚、丙烯酸酯等幾類。LGuo研究了一種新型的以環氧硅酮為中間體的紫外固化材料,該環氧硅酮中間體可通過加入乙酸
              發布時間:2016-07-27   點擊次數:493

            • [行業動態] 光刻膠的生產步驟有哪些?

              光刻膠的生產步驟有哪些1、準備基質:在涂布光阻劑之前,硅片一般要進行處理,需要經過脫水烘培蒸發掉硅片表面的水分,并涂上用來增加光刻膠與硅片表面附著能力的化合物(目前應用的比較多的是六甲基乙硅氮烷(hexa-methyl-disilazane
              發布時間:2016-07-27   點擊次數:122

            • [行業動態] 光刻膠的選擇是一個復雜的過程

              光刻膠的選擇是一個復雜的過程。主要的決定因素是晶圓表面對尺寸的要求。光刻BCM5325MA2KQMG膠首先須具有產生那些所要求尺寸的能力。除了這些,還須有在刻蝕過程中阻擋刻蝕的功能。在阻擋刻蝕的作用中,保持特定厚度的光刻膠層中不
              發布時間:2016-07-27   點擊次數:167

            • [媒體報道] 光刻膠材料的制備和基本要素

              光刻膠是微電子技術中微細圖形加工的關鍵材料之一,特別是近年來大規模和很大規模集成電路的發展,更是大大幫助了光刻膠的研究開發和應用。印刷工業是光刻膠應用的另一重要領域。1954年由明斯克等人首先研究成功的聚乙烯醇肉桂酸脂就是用于印刷工業的,
              發布時間:2017-12-14   點擊次數:143

            • [媒體報道] 光刻加工光刻膠光刻以及顯影工藝介紹

              克服了普通光刻膠采用UV深寬比不足的問題,在近紫外光(365nm-400nm)范圍內光吸收度很低,且整個光刻膠層所獲得的曝光量均勻一致,可得到具有垂直側壁和高深寬比的厚膜圖形;它還具有良好的力學性能、抗化學腐蝕性和熱穩定性;在受到紫外輻射后
              發布時間:2017-12-14   點擊次數:174

            • [公司新聞] 我國半導體之殤--光刻機與光刻膠

              我國半導體之殤--光刻機與光刻膠光刻膠是由感光樹脂、增感劑和溶劑等主要成分組成的對光敏感的混合液體。在紫外光、深紫外光、電子束、離子束等光照或輻射下,進行光化學反應,經曝光、顯影等過程,將所需要的微細圖形從掩模版轉移至待加工的襯底上,然后進
              發布時間:2016-07-27   點擊次數:112

            • [公司新聞] 光刻膠國產化道路:任重道遠

              光刻膠:用化學反應進行圖像轉移的媒介光刻膠具有光化學敏感性,其經過曝光、顯影、刻蝕等工藝,可以將設計好的微細圖形從掩膜版轉移到待加工基片。光刻膠產業鏈光刻膠和集成電路制造產業鏈的前端的即為光刻膠專用化學品,生產而得的不同類型的光刻膠被應用于
              發布時間:2016-07-27   點擊次數:101

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